微量氧分析儀的校準(zhǔn)一般有兩種。露點(diǎn)儀直接測(cè)出露點(diǎn)溫度的儀器。使一個(gè)鏡面處在樣品濕空氣中降溫,直到鏡面上隱現(xiàn)露滴的瞬間,測(cè)出鏡面平均溫度,即為露點(diǎn)溫度。露點(diǎn)分析儀它測(cè)濕精度高,但需光潔度很高的鏡面,精度很高的溫控系統(tǒng),以及靈敏度很高的露滴(冰晶)的光學(xué)探測(cè)系統(tǒng)。使用時(shí)必須使吸入樣本空氣的管道保持清潔,否則管道內(nèi)的雜質(zhì)將吸收或放出水分造成測(cè)量誤差。1、 瓶裝設(shè)計(jì)規(guī)范氣" />
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詞條說明
KX200-U ?在線氧氣分析儀?在線氧氣分析儀:氧氣分析儀采用進(jìn)口電化學(xué)、離子流、氧化鋯或磁氧傳感器,結(jié)合**的MCU技術(shù)研發(fā)而成的新型智能化工業(yè)級(jí)氣體分析儀。?技術(shù)參數(shù)▌測(cè)量原理:電化學(xué)/氧化鋯/離子流/磁氧/臺(tái)式激光氧▌測(cè)量范圍:0-10/100/1000ppm/1%/5%/25%/**(量程任選)▌分 ?辨 ?率:0.1ppm/1ppm
紅外線氣體分析儀是利用紅外線進(jìn)行分析。它基于待分析組分的濃度不同,吸收的輻射能不同.剩下的輻射能使得檢測(cè)器里的溫度升高不同,動(dòng)片薄膜兩邊所受的壓力不同,從而產(chǎn)生一個(gè)電容檢測(cè)器的電信號(hào)。這樣,就可間接測(cè)量出待分析組分的濃度。??1.比爾定律紅外線氣體分析儀是根據(jù)比爾定律制成的。假定被測(cè)氣體為一個(gè)無限薄的平面.強(qiáng)度為k的紅外線垂直穿透它,則能量衰減的量為:I=I0e-KCL(比爾定
KX200-X ?氧氣分析儀?氧氣分析儀:氧氣分析儀采用進(jìn)口電化學(xué)、離子流、氧化鋯或磁氧傳感器,結(jié)合**的MCU技術(shù)研發(fā)而成的新型智能化工業(yè)級(jí)氣體分析儀。?技術(shù)參數(shù):▌測(cè)量原理:電化學(xué)/氧化鋯/離子流/磁氧/激光氧▌測(cè)量范圍:O2:0-1000ppm/10%-**(量程任選)▌分 ?辨 ?率:0.1ppm/1ppm/0.01%/0.1%▌允
激光氣體分析儀是一種光譜吸收技術(shù),通過分析激光被氣體的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術(shù)的不同之處在于,半導(dǎo)體激光光譜寬度遠(yuǎn)小于氣體吸收譜線的展寬,被廣泛用于多個(gè)領(lǐng)域中。?激光氣體分析儀具有直接安裝、無防爆問題、光纖分布、分體式連接、多點(diǎn)同時(shí)監(jiān)測(cè)、檢測(cè)范圍廣泛、**強(qiáng)的抗干擾能力、快速響應(yīng)時(shí)間等特點(diǎn)。?激光氣體分析儀由**單元、接收單元、**模塊、接收模塊、氣體
公司名: 西安科訊自動(dòng)化控制系統(tǒng)有限公司
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