英國(guó) NanoMagnetics 原子力顯微鏡硅片表面形貌測(cè)量

時(shí)間：2019-05-31作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：46

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  詞條說明

• KRI 離子源應(yīng)用于舞臺(tái)燈光濾光片鍍膜

  ?? 舞臺(tái)燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的,?但光源一般都是白色.?通過在光源前加上特定的光學(xué)濾光片,?對(duì)光進(jìn)行“加工”,?反射和透過特定的波段,?來達(dá)到不同的色彩變化.?加上顏色濾光片,?讓不同顏色的鏡片不停切換,?產(chǎn)生不同顏色.?而在光學(xué)元件或立基板上,?鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜

• 美國(guó) HVA 真空閥門選型

  上海伯東美國(guó)?HVA 真空閥門選型實(shí)例產(chǎn)品系列特點(diǎn)口徑HVA 真空閘閥 11000 系列介面, 控制方式全包括DN 16 到 DN 600HVA 真空層流閘閥 13000系列防腐蝕DN 40 到 DN 300HVA 真空層流閘閥 16000系列防顆粒污染DN 40 到 DN 350HVA 矩形閥 21200 系列長(zhǎng)使用壽命DN 16 到 DN 300HVA 3位真空閘閥 21700系列

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)

  激光是一種很奇妙的?”物質(zhì)”,?是人類繼原子能、計(jì)算機(jī)和半導(dǎo)體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達(dá)到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準(zhǔn)直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強(qiáng)大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅(jiān)硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因