詞條
詞條說(shuō)明
UV光解和等離子技術(shù)是現(xiàn)今應(yīng)用于**廢氣降解**常用的兩種方法。采用這兩種辦法,都能將廢氣中的**成份,分解為無(wú)害的水及二氧化碳,并預(yù)防了二次污染。但這兩種方法,仍各有優(yōu)缺點(diǎn)。UV光解是利用特殊的低壓紫外燈管能同時(shí)**出185nm紫外線和254nm紫外線的雙光譜特性。燈管**出的185nm紫外線,能觸發(fā)空氣中的O2(氧),轉(zhuǎn)化為O3(臭氧)。臭氧具有很強(qiáng)的氧化能力,其與廢氣中的碳?xì)浠衔铮ㄈ绫筋?、烴
治理VOCs效率的主要因素如下: UV波長(zhǎng),起始溫度,初始濃度,相對(duì)濕度,停留時(shí)間,反應(yīng)介質(zhì)。 初始濃度的影響 1、隨著甲苯濃度增高,降解效率降低。這是由于真空紫外燈**的185 nm的紫外線能量強(qiáng)度有限,單位時(shí)間內(nèi)光解效率下降。 2、單純的增加燈管的數(shù)量是無(wú)法解決高濃度**氣體問題,紫外光解技術(shù)不適合中高濃度VOCs氣體。 相對(duì)濕度的影響 1、相對(duì)濕度低的條件下,氧氣吸收了大部分185nm紫外光
危廢固廢暫存間廢氣除臭設(shè)備 二級(jí)活性炭吸附箱豪澋環(huán)保
活性炭吸附箱可以作為酸霧凈化塔、等離子除臭設(shè)備、UV光氧光催化設(shè)備、生物除臭設(shè)備、靜電出油器、活性炭吸附裝置、活性氧離子除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備的末端配套設(shè)備,也可以作為中低濃度廢氣的直接處理設(shè)備活性炭吸附裝置的工作原理 ?廢氣經(jīng)過(guò)吸附塔內(nèi)的初效過(guò)濾器除去固體顆粒物后,進(jìn)入塔體,經(jīng)過(guò)活性炭層吸附后,除去氣體中的**廢氣分子,達(dá)到符合排放標(biāo)準(zhǔn)的凈化氣體,經(jīng)風(fēng)機(jī)排到室外?;钚蕴课窖b置的設(shè)
工業(yè)廢氣普遍存在于化工廠,電子廠,印刷廠,噴漆車間,涂裝廠,食品廠,橡膠廠,涂料廠,石化行業(yè)等產(chǎn)生粉塵,異味,煙塵等場(chǎng)所。為清除污染、凈化生產(chǎn)生活環(huán)境,響應(yīng)國(guó)家藍(lán)天保衛(wèi)戰(zhàn)的號(hào)召,越來(lái)越多的廢氣處理設(shè)備被治理污染所需求。 工業(yè)廢氣處理有活性炭吸附法、催化燃燒法、催化氧化法、酸堿中和法、等離子法等多種原理。企業(yè)在選擇廢氣處理設(shè)備時(shí),應(yīng)根據(jù)具體情況選用費(fèi)用低、耗能少、**次污染、盡量做到節(jié)約能耗,有利環(huán)
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