無(wú)錫光氧處理設(shè)備廠 等離子光氧一體機(jī)

時(shí)間：2020-04-16作者：江蘇祿景環(huán)保設(shè)備有限公司瀏覽：160

江蘇祿景環(huán)保設(shè)備有限公司專注于光催化氧化裝置,活性炭吸附箱,離子除臭設(shè)備等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 工業(yè)廢氣治理-UV光解技術(shù)

  UV光解技術(shù)的應(yīng)用范圍比較廣，用在塑料行業(yè)的比如有注塑廠、吹塑廠、吹膜廠、塑料造粒行業(yè)等等，UV光解利用的就是UV紫外線的兩種波段，也就是185nm和254nm，燈管中的185波段可以觸發(fā)空氣中的氧，將空氣中的氧轉(zhuǎn)化為臭氧，利用臭氧的強(qiáng)氧化力，將廢氣中的苯系物、醇類和脂類等廢氣分解，再被燈管釋放的254波段的強(qiáng)紫外光的照射下，在二氧化鈦催化網(wǎng)的的作用下，將廢氣凈化成為水汽和二氧化碳等無(wú)害氣體。 U

• 等離子活性氧除臭裝置

  等離子活性氧除臭裝置 等離子活性氧除臭裝置，內(nèi)部裝有*特的碰吸單元，截留去除臭氣中的顆粒物質(zhì)；臭氣收集系統(tǒng)收集的多元素氣體經(jīng)過(guò)等離子活性氧除臭裝置，在高壓等離子電場(chǎng)的作用下，電離初始態(tài)氧將其中的臭氣離子進(jìn)行電離荷電除臭，帶電的微小離子（塵埃粒子）被吸附單元所收集，并流入和沉積到氣體處理裝置的儲(chǔ)塵箱內(nèi)，氣體內(nèi)的有害氣體，被電場(chǎng)內(nèi)所產(chǎn)生的臭氧所殺菌，并去除了異味，有害氣體被除掉，去除率經(jīng)試驗(yàn)檢測(cè)，去除

• 影響U影響UV光解除臭設(shè)備治理VOCs效率的主要因素

  影響UV光解除臭設(shè)備治理VOCs效率的主要因素如下： UV波長(zhǎng)，起始溫度，初始濃度，相對(duì)濕度，停留時(shí)間，反應(yīng)介質(zhì)。 初始濃度的影響 1、隨著甲ben濃度增高，降解效率降低。這是由于真空紫外燈**的185 nm的紫外線能量強(qiáng)度有限，單位時(shí)間內(nèi)光解效率下降。 2、單純的增加燈管的數(shù)量是無(wú)法解決高濃度**氣體問題，紫外光解技術(shù)不適合中高濃度VOCs氣體。 相對(duì)濕度的影響 1、相對(duì)濕度低的條件下，氧氣吸收

• 浙江杭州等離子除臭設(shè)備 污水泵站廢氣處理設(shè)備

  【低溫等離子除臭設(shè)備】基本說(shuō)明所謂等離子體是繼固體、氣體、液體三態(tài)后，列為物質(zhì)的*四態(tài)，由正離子、負(fù)離子、電子和中性離子組成，因體系中正負(fù)電荷總數(shù)相等，故稱為“等離子體”。等離子體按粒子溫度可分為平衡態(tài)（電子溫度=離子溫度）與非平衡態(tài)（電子溫度>>離子溫度）兩類。非平衡態(tài)等離子體電子溫度可上萬(wàn)度，離子及中性離子可低至室溫，即體系表觀溫度仍很低，故稱“低溫等離子體”，一般由氣體放電產(chǎn)生。