4N高純氧化鋁在半導(dǎo)體CMP拋光液中的應(yīng)用

時間：2025-07-16作者：山東嘉晨新材料技術(shù)有限公司瀏覽：14

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• 4N高純氧化鋁在半導(dǎo)體CMP拋光液中的應(yīng)用

  高純氧化鋁磨料在半導(dǎo)體化學(xué)機械拋光（CMP）中扮演著關(guān)鍵角色，主要用于實現(xiàn)晶圓表面的平坦化123。以下是其具體應(yīng)用：優(yōu)勢硬度高：對硬度較大的襯底材料（如藍(lán)寶石、碳化硅）具有優(yōu)良的去除速率，滿足半導(dǎo)體材料的高硬度拋光需求34。性能穩(wěn)定：不溶于水，不與酸堿反應(yīng)，確保拋光過程穩(wěn)定，減少設(shè)備腐蝕35。粒度可控：納米級氧化鋁顆?？蓪崿F(xiàn)原子級平整度，滿足**半導(dǎo)體制造要求12。發(fā)展趨勢技術(shù)突破：國內(nèi)正努力突破