分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：137

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 氦質(zhì)譜檢漏儀真空鍍膜配氣面板檢漏

  氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340?真空鍍膜配氣面板檢漏上海伯東某客戶生產(chǎn)高純度特種氣體不銹鋼減壓閥門, 接頭, 管件, 這些配件主要用于集成在真空鍍膜配氣面板, 實(shí)現(xiàn)工藝氣體的傳輸. 為了防止氣體外泄, 除了閥門, 接頭, 管件需要單檢漏外, 整個(gè)配氣面板也需要測(cè)試整體漏率, 使用上海伯東德國(guó) Pfeiffer?氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 真空模式下, 漏率設(shè)置為 5.5x

• KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

  ??紅外截止濾光片?(IRCF)?是利用精密光學(xué)鍍膜技術(shù)在光學(xué)基片上交替鍍上高低折射率的光學(xué)膜,?實(shí)現(xiàn)可見光區(qū)（400nm-630nm）高透,?近紅外（700nm-1100nm）截止的光學(xué)濾光片,?主要應(yīng)用于可拍照手機(jī)攝像頭、電腦內(nèi)置攝像頭、汽車攝像頭和安防攝像頭等數(shù)碼成像領(lǐng)域,?用于紅外光線對(duì)?CCD/CM

• KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜

  立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學(xué)惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導(dǎo)率/ 在寬波長(zhǎng)范圍內(nèi)(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導(dǎo)體等特點(diǎn), 在切削工具/ 材料/ 光學(xué)元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應(yīng)用潛力.?在對(duì)立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用

• HVA 真空插板閥（真空閥門）用于激光真空系統(tǒng)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。美國(guó)HVA帶孔真空插板閥（真空閥門）真空閘閥廣泛用于激光真空系統(tǒng)伯東公司代理美國(guó)HVA帶孔真空插板閥(Gate Valve)真空閥門廣泛用于激光真空系統(tǒng)HVA Gate Valve在激光真空系統(tǒng)上的應(yīng)用伯東企業(yè)（上海）有限公司, 為美國(guó)HVA 真空閥門在中國(guó)境內(nèi)的代理商, 并負(fù)責(zé)HVA Valve 真空閥門在中國(guó)地區(qū)的銷售