美國 HVA 真空閥門中國總代理

時間：2024-01-11

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏
氦質譜檢漏儀熱交換器檢漏上海伯東德國 Pfeiffer 某客戶需要對體積 >1000L 的熱交換器進行檢漏, 熱交換器內部管子細長, 流導小, 需要盡可能的快速測試并要求清潔無油, 真空模式下, 熱交換器漏率要求 1x10-6 mbar l/s. 為了快速抽空, 選用輔助泵 + 氦質譜檢漏儀 ASM 390, 實現(xiàn)快速檢漏！熱交換器檢漏方法：配置: ASM 380 (新款 ASM 390)
HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)
某半導體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.?HVA?是真空技術創(chuàng)新者的真空閥門(插板閥),?是高真空閥門的主要制造商和供應商.?在設計真空系統(tǒng)時,?可以輕松集成?HVA?閥門. HVA?閘閥從5/8英寸（16
氦質譜檢漏儀 CVD 設備檢漏,滿足第三代半導體芯片量產(chǎn)
氦質譜檢漏儀?CVD 設備檢漏, 滿足*三代半導體芯片量產(chǎn)上海伯東某客戶是一家以**化合物半導體光電器件相關產(chǎn)品衍生智造為主業(yè)的創(chuàng)新型科技公司, **產(chǎn)品是物聯(lián)網(wǎng), 5G 通訊, 安防監(jiān)控等*三代半導體芯片. 芯片在生產(chǎn)過程中使用 CVD 設備做鍍膜處理, 在鍍膜過程中需要保持設備處于高真空狀態(tài), 這就要求腔體的泄漏率不能過 1E-10 mbrl l/s.CVD?設備檢漏要
KRI 霍爾離子源應用于黑膜鍍制
? ?? ? ?黑膜鍍制,?是指將入射到材料表面的光線,?包括紫外光、可見光、近紅外光以及中遠紅外波段的光,?幾乎全部吸收而基本沒有反射的表面處理技術.?高的吸收率使黑膜有著廣闊的應用前景.?如可在精密光學儀器和光學零件、醫(yī)療儀器、航空航天、外觀裝飾品等產(chǎn)品上得到廣泛使用,?可大幅度提高產(chǎn)