KRI 離子源應(yīng)用于舞臺燈光濾光片鍍膜

時間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：62

伯東企業(yè)（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質(zhì)譜檢漏儀,inTEST等

• 詞條

  詞條說明

• KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

  上海伯東美國?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標, 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個離子源主要濺射沉積源和二次預清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• HVA 真空閥門應(yīng)用于E-Beam 鍍膜機

  某品牌?Sputtering + E-Beam PVD?鍍膜機系統(tǒng)采用?HVA?真空閥門?11000, HVA?真空閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統(tǒng)停機時不破壞系統(tǒng)真空,?只要對泵內(nèi)部進行破真空即可.E-Beam?鍍膜機設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室,?電子,?進樣室 

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺, 工作氣

• 燃料電池儲氫系統(tǒng)氦質(zhì)譜檢漏法

  上海伯東燃料電池儲氫系統(tǒng)氦質(zhì)譜檢漏法氫是一種易于儲存, 運輸和使用的能源載體.?在多種工業(yè)領(lǐng)域的脫碳,?以及在行駛距離長,?加油所需時間短的零排放出行中,?氫技術(shù)都發(fā)揮重要作用.?氫能作為一種清潔能源在燃料電池中的化學反應(yīng)只產(chǎn)生水,?電和熱.?已被廣泛應(yīng)用于燃料電池電動汽車?FCEV?車載儲氫系統(tǒng),