詞條
詞條說(shuō)明
形狀記憶材料(SMM)是一類(lèi)能夠響應(yīng)外部刺激,如溫度、力、電磁場(chǎng)等,并隨之改變形狀或性質(zhì)的高科技材料。這些材料在航空航天、生物醫(yī)療、汽車(chē)工業(yè)和建筑工程等多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用潛力。形狀記憶材料的分類(lèi)和介紹形狀記憶合金與聚合物形狀記憶合金(SMA)和形狀記憶聚合物(SMP)是該領(lǐng)域的兩大支柱。SMA,如鎳鈦合金,以其在特定溫度下顯著的形狀變化而**。而SMP則以其輕質(zhì)、易加工和成本效益等優(yōu)勢(shì)逐漸受
低場(chǎng)核磁共振橫相弛豫時(shí)間與橫向弛豫特性
低場(chǎng)核磁共振橫相弛豫時(shí)間與橫向弛豫特性在核磁共振現(xiàn)象中,弛豫是指原子核發(fā)生共振且處在高能狀態(tài)時(shí),當(dāng)射頻脈沖停止后,將迅速恢復(fù)到原來(lái)低能狀態(tài)的現(xiàn)象?;謴?fù)的過(guò)程即稱(chēng)為弛豫過(guò)程,它是一個(gè)能量轉(zhuǎn)換過(guò)程,需要一定的時(shí)間反映了質(zhì)子系統(tǒng)中質(zhì)子之間和質(zhì)子周?chē)h(huán)境之間的相互作用。完成弛豫過(guò)程分兩步進(jìn)行,即縱向磁化強(qiáng)度矢量Mz恢復(fù)到較初平衡狀態(tài)的M0和橫向磁化強(qiáng)度Mxy要衰減到零,這兩步是同時(shí)開(kāi)始但獨(dú)立完成的,下面將
低場(chǎng)核磁共振技術(shù)研究國(guó)產(chǎn)cmp研磨液
低場(chǎng)核磁共振技術(shù)研究國(guó)產(chǎn)cmp研磨液什么是cmp研磨液?CMP 全稱(chēng)為 Chemical Mechanical Polishing,即化學(xué)機(jī)械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的比備流程之一,對(duì)高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對(duì)分散要求很高的納米材料懸浮液,所以研磨過(guò)程中對(duì)顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液中的
低場(chǎng)核磁技術(shù)用于硅橡膠相容性研究相容性的定義:相容性是指共混物各組分彼此相互容納,形成宏觀(guān)均勻材料的能力。大量的實(shí)際研究結(jié)果表明,不同聚合物對(duì)之間相互容納的能力,是有著很懸殊的差別的。某些聚合物對(duì)之間,可以具有及好的相容性;而另一些聚合物對(duì)之間則只有有限的相容性;還有一些聚合物對(duì)之間幾乎沒(méi)有相容性。由此,可按相容的程度劃分為完荃相容、部分相容和不相容。相應(yīng)的聚合物對(duì),可分別稱(chēng)為完荃相容體系、部分相
公司名: 蘇州紐邁分析儀器股份有限公司
聯(lián)系人: 何經(jīng)理
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手 機(jī): 18939912673
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