詞條
詞條說(shuō)明
一、軟化水設(shè)備的正確安裝(一)安裝前的準(zhǔn)備工作場(chǎng)地準(zhǔn)備選擇一個(gè)合適的安裝場(chǎng)地,需要考慮設(shè)備的尺寸和操作空間。一般來(lái)說(shuō),設(shè)備周圍應(yīng)預(yù)留至少 0.5 - 1 米的空間,以便進(jìn)行日常維護(hù)和檢修。場(chǎng)地要平整、干燥,避免有積水或過(guò)于潮濕的情況,防止設(shè)備生銹和電氣元件損壞。安裝場(chǎng)地的溫度應(yīng)保持在合適的范圍內(nèi),通常建議在 5 - 40℃之間。溫度過(guò)高或過(guò)低可能會(huì)影響設(shè)備的性能和使用壽命,特別是對(duì)于一些含有塑料部
10 噸反滲透設(shè)備一、設(shè)備概述10 噸反滲透設(shè)備是一種能夠每日生產(chǎn) 10 噸純水的水處理裝置。它主要基于反滲透技術(shù),通過(guò)對(duì)原水施加一定壓力,使水通過(guò)半透膜,從而去除水中的雜質(zhì)、鹽分、有機(jī)物和微生物等,生產(chǎn)出高質(zhì)量的純水。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子、制藥、化工、食品飲料、電力等眾多行業(yè),以及對(duì)水質(zhì)要求較高的場(chǎng)所,如實(shí)驗(yàn)室、醫(yī)院等。二、工作原理反滲透原理反滲透膜是 10 噸反滲透設(shè)備的核心部件,其孔徑非常
電子工業(yè)領(lǐng)域半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過(guò)程中,幾乎每一個(gè)環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達(dá) 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機(jī)物和微生物對(duì)芯片制造過(guò)程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠?yàn)楣饪棠z的
實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備一、工作原理預(yù)處理階段過(guò)濾雜質(zhì):實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)通常先通過(guò)機(jī)械過(guò)濾來(lái)去除水中的大顆粒懸浮物,如泥沙、鐵銹等。一般采用石英砂過(guò)濾器或 PP 棉濾芯,當(dāng)水通過(guò)這些過(guò)濾介質(zhì)時(shí),大顆粒雜質(zhì)被攔截在濾芯表面,使水初步得到凈化。例如,PP 棉濾芯的孔徑可以達(dá)到 1 - 5 微米,能夠有效阻擋水中的可見雜質(zhì)。軟化水質(zhì):接著是軟化過(guò)程,主要是去除水中的鈣、鎂等離子,降低水的硬度。這一過(guò)程通常使用離
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