等離子清洗機(jī)使用范圍

時(shí)間：2020-03-25作者：深圳瑞程科技有限公司瀏覽：675

深圳瑞程科技有限公司專注于三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 等離子清洗機(jī)起到的作用

  (A)對(duì)材料表面的刻蝕作用物理作用 等離子體中的大量離子、激収態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。(B)激活鍵能，交聯(lián)作用 等離子體中的粒子能量在 0~20eV，而聚合物*部分的鍵能在 0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化

• 偏光應(yīng)力儀測(cè)試原理

  探測(cè)器 依分辨率高低檔次由低**常用的探測(cè)器有NaI晶體閃爍計(jì)數(shù)器，充氣(He，Ne，Ar，Kr，Xe等)正比計(jì)數(shù)管器、HgI2晶體的探測(cè)器、半導(dǎo)體致冷SiPIN探測(cè)器、高純硅晶體的探測(cè)器、高純鍺晶體的探測(cè)器、電致冷或著液氮致冷Si(Li)鋰漂移硅晶體的探測(cè)器、Ge(Li)鋰漂移鍺探測(cè)器等。 目前常用的是電致冷或液氮致冷Si(Li)鋰漂移硅晶體的探測(cè)器、SiPIN探測(cè)器、高純的硅晶體探測(cè)器。探測(cè)器

• 三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的條件

  由于高精度的要求，三坐標(biāo)檢測(cè)系統(tǒng)一直對(duì)工作環(huán)境比較苛刻。誠(chéng)然，恒溫?zé)o塵的工作間能夠保證三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x精確度和重復(fù)性，但卻限制了質(zhì)量檢測(cè)環(huán)節(jié)的工作效率，不利于企業(yè)對(duì)生產(chǎn)過(guò)程的控制。因此，在自動(dòng)化生產(chǎn)線中整合三坐標(biāo)檢測(cè)系統(tǒng)必將成為一大趨勢(shì)。三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x機(jī)型選擇目前自動(dòng)型測(cè)量?jī)x已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用，基本上實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制，配合全自動(dòng)測(cè)座，三坐標(biāo)操作員只需要通過(guò)控制系統(tǒng)的操作桿就能讓測(cè)頭完成測(cè)量工作。因此，自動(dòng)

• 偏光應(yīng)力儀的工作原理?

  偏光應(yīng)力儀的工作原理偏光應(yīng)力儀大量應(yīng)用于玻璃、塑料等透明材質(zhì)的內(nèi)部應(yīng)力檢測(cè)。長(zhǎng)期以來(lái)該儀器的校準(zhǔn)一直難以實(shí)施，本文介紹了基于光強(qiáng)法的光學(xué)相位延遲的量值復(fù)現(xiàn)原理及相應(yīng)的測(cè)量裝置，闡述了光學(xué)相位延遲量值的傳遞過(guò)程和相關(guān)問(wèn)題。玻璃等透明材料存在的內(nèi)部應(yīng)力是這些材料的較為重要的物理指標(biāo)。該應(yīng)力的存在不僅導(dǎo)致材料表面會(huì)隨時(shí)間而慢慢變形，嚴(yán)重影響成像質(zhì)量，而且應(yīng)力分布不均勻嚴(yán)重時(shí)還會(huì)引起自爆。近期發(fā)生的玻璃幕