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時(shí)間：2019-12-18作者：東莞市鼎偉新材料有限公司瀏覽：81

東莞市鼎偉新材料有限公司專注于鈦鋁靶,鉻鋁靶,鎳鉻合金靶,鎢鈦合金靶材,鎳釩合金靶,高純鉻靶等, 歡迎致電 18681059472

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 多元合金靶材

  多元合金靶材：現(xiàn)代工業(yè)的"隱形英雄"在材料科學(xué)領(lǐng)域，多元合金靶材正悄然改變著多個(gè)行業(yè)的技術(shù)格局。這種由兩種或以上金屬元素組成的特殊材料，通過(guò)精密控制成分比例和微觀結(jié)構(gòu)，展現(xiàn)出單一金屬無(wú)法比擬的優(yōu)異性能。多元合金靶材的制備工藝極為考究。從原料選擇開(kāi)始，就需嚴(yán)格把控純度，通常要求達(dá)到99.9%以上。熔煉過(guò)程中采用真空感應(yīng)熔煉或電弧熔煉技術(shù)，確保合金成分均勻分布。隨后的熱機(jī)械加工環(huán)節(jié)通過(guò)精確控制軋制溫

• 什么是貴金屬靶材

  ? ? ?貴金屬靶材就是采用精練、粉末冶金、壓延加工或熔化鍛造制造而成的貴金屬靶材材料。是主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、存儲(chǔ)用的硬盤(pán)、平面顯示器等的布線和制備薄膜用的貴金屬濺射靶材材料。廣泛應(yīng)用于集成電路和大規(guī)模集成電路。還有一些合金靶材用于磁記錄。? ? ?在貴金屬靶材中其貴金屬的純度都在99.99%以上主要應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)與大規(guī)模的集成電路中

• 氮化硅靶材

  氮化硅靶材：現(xiàn)代科技中的隱形英雄 氮化硅靶材在高科技制造領(lǐng)域扮演著關(guān)鍵角色。這種材料由氮和硅元素組成，具備獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì)，使其在半導(dǎo)體、光伏、顯示面板等行業(yè)中不可或缺。 氮化硅靶材的制備工藝直接影響其性能。通常采用熱壓燒結(jié)或化學(xué)氣相沉積（CVD）方法，確保材料的高純度和致密性。熱壓燒結(jié)通過(guò)高溫高壓使粉末顆粒緊密結(jié)合，而CVD則通過(guò)氣體反應(yīng)在基板上沉積氮化硅薄膜。兩種方法各有優(yōu)劣，熱壓燒結(jié)成

• 惠州稀土靶材報(bào)價(jià)

  惠州稀土靶材報(bào)價(jià)稀土靶材作為一種重要的濺射靶材，在電子元件、光學(xué)薄膜、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。它能夠通過(guò)電子或高能激光轟擊靶材的方式，在基片表面形成薄膜，起要的功能和作用。稀土靶材的制備方法多種多樣，包括物理方法和化學(xué)方法，每種方法均有其*特的優(yōu)勢(shì)和適用場(chǎng)景。在稀土靶材的種類中，高純稀土金屬靶材和稀土合金靶材是兩類重要的產(chǎn)品。高純稀土金屬鐿靶材是處于**水平的稀土靶材產(chǎn)品，主要應(yīng)用于新型發(fā)