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? ? ??卷繞式真空鍍膜設備,包括設置有放卷裝置、鍍膜室和收卷裝置的真空腔體,鍍膜室設置有與驅(qū)動電機輸出軸連接的鍍膜輥,放卷裝置包括一放卷輥和一主動的送料輥輪對,送料輥輪對與鍍膜輥之間設置有張力釋放輥,該張力釋放輥是使料卷在送料輥輪對與張力釋放輥之間保持松弛狀態(tài)的輥輪;收卷裝置包括一主動的收卷輥,鍍膜輥與收卷輥之間亦設置有送料輥輪對,該送料輥輪對與收卷輥之
真空磁控濺射鍍膜設備的技術特點 真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應沉積鍍膜,實際上,這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外,該工藝也特別適合用于多層膜結構的沉積,包括了光學設計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、**晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年,已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學薄膜沉積案例,開發(fā)了多種光學膜層材料。這些材料包括有透明導電材料、半導體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等,至于氟
真空鍍膜機是目前制作真空條件應用較為廣泛的設備,目前生活中使用到的物品都離不開真空鍍膜行業(yè)。但是許多人都不知道真空鍍膜的主要構成部分,接下來讓我們一起來認識一下真空鍍膜機的主要構成部分。其中有:真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機械傳動部分、加熱及測溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷系統(tǒng)。1、真空室涂層設備主要有連續(xù)涂層生產(chǎn)線及單室涂層機兩種形式,不銹鋼材料制造、氬弧
離子鍍的原理:離子鍍是在真空室中,利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時,將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術和真空蒸發(fā)三者**結合起來, 不僅能明顯地改進了膜質(zhì)量,而且還擴大了薄膜的應用范圍。其優(yōu)點是薄膜 附著力 強,繞射性好,膜材廣泛等。多弧離子鍍工藝的**特點是我們可以通過產(chǎn)生由高度電離的蒸發(fā)物質(zhì)文化組成的等離子體,其中離子之間
公司名: 廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司
聯(lián)系人: 吳先生
電 話:
手 機: 18011984646
微 信: 18011984646
地 址: 廣東廣州黃埔區(qū)起云路8號5棟411房、5棟412房
郵 編:
網(wǎng) 址: gdzhenhuavac.b2b168.com
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